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  • GMD2000/4納米級高剪切樹脂研磨分散機
    納米級高剪切樹脂研磨分散機

    納米級高剪切樹脂研磨分散機的特點: 1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。 2、齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。 3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

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  • GMD2000//4納米級樹脂研磨分散機
    納米級樹脂研磨分散機

    納米級樹脂研磨分散機,樹脂研磨分散機,高剪切研磨分散機GMD2000系列是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,它的一級是膠體磨的三級研磨頭,由粗至細至超細,可將較粗顆粒研磨至超細;二級連接一個超細齒的分散頭,轉(zhuǎn)速9000rpm,可將納米級顆粒瞬間進行分散,防止顆粒抱團。

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  • GMD2000/4石墨烯三級高速研磨分散機
    石墨烯三級高速研磨分散機

    【 石墨烯三級高速研磨分散機的特點】 ① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨 ② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。 ③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離 ④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 ⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)

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  • GMD2000/4高剪切防黏劑研磨分散機
    高剪切防黏劑研磨分散機

    高剪切防黏劑研磨分散機GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。

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  • GMD2000超高速納米研磨分散機
    超高速納米研磨分散機

    超高速納米研磨分散機,高剪切超細研磨分散機,超細乳化設(shè)備,進口研磨分散機,對于研磨分散機來說Z大的一個目的就是要達到乳化的效果,那么從設(shè)備角度來說影響乳化效果的因素有哪些呢? 1、乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好) 2、乳化頭的剪切速率(越大,效果越好) 3、乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好) 4、物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作

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  • GMD2000環(huán)氧樹脂研磨分散機的改性方法
    環(huán)氧樹脂研磨分散機的改性方法

    【環(huán)氧樹脂研磨分散機的改性方法】 環(huán)氧樹脂可通過化學(xué)方法改性和物理方法進行改性。化學(xué)方法改性主要是合成新型結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂及新型結(jié)構(gòu)的固化劑;物理方法改性主要是通過與改性劑形成共混結(jié)構(gòu)來達到提高性能的目的。兩種方法比較起來,*種方法從工藝、成本及難易程度來講都比第二種方法處于劣勢。因此,目前對環(huán)氧樹脂的改性主要是通過共混結(jié)構(gòu)實現(xiàn)的。

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  • GMD2000納米高速研磨分散機
    納米高速研磨分散機

    納米高速研磨分散機,研磨分散機是一款集研磨和分散一體化的設(shè)備,是一項新的技術(shù)革新。研磨分散機是將膠體磨(錐體磨)+高剪切分散機一體化的設(shè)備,先研磨后分散,物料研磨后又瞬間進行分散,避免了物料的二次團聚。

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  • GMD2000納米海藻研磨分散機
    納米海藻研磨分散機

    納米海藻研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面

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